真空鍍膜有哪些分類？在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及外表處理技能中經(jīng)常聽到真空鍍膜這個詞。真空鍍膜加工是比較常用的涂層加工方式，就是在真空環(huán)境下，使用蒸鍍、濺射以及隨后凝聚的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層方法。
真空蒸鍍
其原理是在真空條件下，將離子直接加熱氣化或升華，蒸餾的離子流直接射向基片，并在基片上堆積出固態(tài)薄膜涂層。
濺射鍍膜
濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激起輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛堆積到基片上構成膜層。
離子鍍膜
是在上面兩種真空鍍膜技能基礎融合款，因此兼有兩者的工藝特色。在真空條件下，使用氣體放電使工作氣體或被蒸騰物質(zhì)（膜材）部別離化，并在離子炮擊下，將蒸騰物或其反響物堆積在基片外表。在膜的構成過程中，基片一直遭到高能粒子的炮擊，非常清潔。
真空卷繞鍍膜
真空卷繞鍍膜是一種使用物理氣相堆積的辦法在柔性基體上連續(xù)鍍膜的技能，以完成柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。
上述四種都屬于物理氣相堆積技能使用（PVD）。
接下來是化學氣相堆積（CVD）。它是以化學反響的方法制造薄膜，原理是一定溫度下，將含有制膜材料的反響氣體通到基片上并被吸附，在基片上發(fā)生化學反響構成核，隨后反響生成物脫離基片外表不斷擴散構成薄膜。
束流堆積鍍，結合了離子注入與氣相堆積鍍膜技能的離子外表復合處理技能，是一種使用離化的粒子作為蒸鍍資料，在比較低的基片溫度下，構成具有良好特性薄膜的技能。
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