PVD鍍膜最初并不是在刀具領(lǐng)域首次使用，而在刀具領(lǐng)域的成功應(yīng)用卻引起了各大制造業(yè)的高度重視，人們紛紛開(kāi)始研發(fā)高性能且穩(wěn)定可靠性強(qiáng)的涂層設(shè)備的同時(shí)，也在制造業(yè)領(lǐng)域上加深對(duì)涂層應(yīng)用的研究，而通過(guò)PVD鍍膜技術(shù)制備出的材料同時(shí)具備高硬度、低摩擦系數(shù)和化學(xué)穩(wěn)定性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。

首先，來(lái)跟著認(rèn)識(shí)一下什么是PVD技術(shù)？

我們所知PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫(xiě)，它的#pvd鍍膜材料#中文意思是“物理氣相沉積”，它是指在真空條件下，通用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。

PVD(物理氣相沉積)技術(shù)又為三大類(lèi)，分別是真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對(duì)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類(lèi)，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)。

PVD鍍膜技術(shù)它的原理呢，是在真空條件下，通過(guò)大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場(chǎng)的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

先給大家介紹一下磁控濺射鍍膜的工藝，磁控濺射鍍膜它是在靶材與真空室壁之間先增加電場(chǎng)，使其氬氣電離，并且使氬離子加速撞擊靶材表面。靶材被亞離子撞擊，而靶材原子則溢出并且以數(shù)十甚至上百電子伏特的動(dòng)能飛向被鍍基片表面并沉積在基底表面，原子動(dòng)能則較蒸發(fā)高出兩個(gè)數(shù)量級(jí)，它的填充密度高達(dá)98%，折射率較高且相對(duì)穩(wěn)定。

PVD鍍膜與傳統(tǒng)化學(xué)電鍍相比唯一的相同點(diǎn)是，都是通過(guò)一定的方式將一種材料覆蓋在另一種材料的表面。但兩者也有不同點(diǎn)，PVD膜層與工件表面的結(jié)合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定；PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類(lèi)更為廣泛，可以鍍出的各種膜層的顏色也更多，而且不會(huì)產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。

據(jù)所知，濺射鍍膜工藝上具有可重復(fù)性、鍍膜厚度可控等特點(diǎn)，這一特點(diǎn)體現(xiàn)在大面積的基板材料上，我們可根據(jù)所需要的厚度制作出理想的材料，制備出的薄膜也具有純度高、致密性好、與材料結(jié)合力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。蒸發(fā)鍍膜從制造工藝方面來(lái)看，蒸鍍材料的制造復(fù)雜度要比濺射靶材低一些，蒸發(fā)鍍膜它的優(yōu)點(diǎn)在于工藝簡(jiǎn)單便利、操作方便、成膜速度快等。

PVD真空鍍膜在塑料行業(yè)上也有著廣泛的使用，因?yàn)樗芰暇哂腥菀壮尚偷奶攸c(diǎn)，所以他的成本很低，質(zhì)量也很輕，且具有耐腐蝕等特點(diǎn)，通過(guò)PVD真空鍍膜可以使塑料的表面具有導(dǎo)電的性能，而且PVD涂層也能夠減少它的吸水率，等鍍膜完成后，針孔也會(huì)隨著減少，吸水率也會(huì)降低，經(jīng)過(guò)鍍膜的材料表面的金屬光澤被彩色化，裝飾性能也具有很大的提升。